近日，哈爾濱工業(yè)大學機電工程學院楊立軍教授、丁燁副教授團隊和材料科學與工程學院李洋教授團隊提出了一種在空氣中利用遠場飛秒激光刻蝕技術(shù)在二維鐵電材料上直寫超分辨納米溝槽陣列結(jié)構(gòu)的新方法。相關(guān)研究成果發(fā)表在《自然通訊》（Nature Communication）上。該研究突破了納米結(jié)構(gòu)激光制備的分辨率瓶頸，對創(chuàng)新功能架構(gòu)構(gòu)建、電子器件集成及納米光子學發(fā)展具有重要意義。

傳統(tǒng)的聚焦離子束刻蝕、電子束光刻結(jié)合離子刻蝕等方法普遍存在成本高、工藝復雜、低效率、高損傷等局限，針對相關(guān)技術(shù)難題，團隊提出了一種在空氣中利用遠場飛秒激光刻蝕技術(shù)在多層鈮氧碘材料上制備超分辨納米溝槽陣列結(jié)構(gòu)的方法，揭示了納米溝槽陣列結(jié)構(gòu)的形成機制源于飛秒激光誘導的表面等離激元周期場與納米溝槽局域近場增強效應(yīng)的耦合作用，實現(xiàn)了納米溝槽間距、密度與取向的精確調(diào)控，制備了基于納米溝槽陣列結(jié)構(gòu)的鈮氧碘氣體傳感器。該研究為二維材料功能器件的納米光刻技術(shù)發(fā)展提供了新思路。